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技術(shù)文章

金相拋光液的性能特點(diǎn),一看便知

更新時(shí)間:2022-12-01 瀏覽次數(shù):1056

  金相拋光液是針對(duì)不同研磨材料的特性進(jìn)行*的配方設(shè)計(jì),拋光過(guò)程中,pH值基本保持不變,從而保證拋光速率的穩(wěn)定,并節(jié)約拋光時(shí)間。廣泛用于多種材料納米級(jí)的化學(xué)機(jī)械拋光。如:藍(lán)寶石材料、硅片、不銹鋼、鋁鎂合金、化合物晶體等的拋光加工。

金相拋光液


  由于納米二氧化硅成本相對(duì)較低,且具有良好的分散性、機(jī)械磨損性,高度度、高附著力、成膜性好、高滲透、高耐候性、高耐磨性等特點(diǎn),是一種性能優(yōu)良的CM P技術(shù)用的拋光材料。因而常被用于金屬、藍(lán)寶石、單晶硅、微晶玻璃、光導(dǎo)攝像管等表面準(zhǔn)確拋光。


  金相拋光液的性能特點(diǎn)都有哪些呢?


  1、均勻的球形SiO2粒子;可循環(huán)使用多次;


  2、去除率高,拋光性能穩(wěn)定;可選用中性或弱酸性拋光液對(duì)應(yīng)。


  3、精密的拋光質(zhì)量,Ra<0.2nm、TTV<3μm;


  4、有效減少拋光后的表面劃傷,降低拋光后的表面粗糙度。


  5、適用于35℃以下的低溫拋光工藝;


  6、高達(dá)到高平坦化研磨加工。


  7、該拋光液由高純納米二氧化硅復(fù)合配置而成,通過(guò)高科技術(shù)分散成納米顆粒,高含量分散均勻的納米拋光液。


  8、拋光速平坦度加工,拋光是利用SiO2等材料的均勻納米粒子,不會(huì)對(duì)加工件造成物理?yè)p傷,速率快,利用分散均勻大粒徑的膠體二氧化硅等粒子達(dá)到高速拋光的目的


  9、高純度,拋光液不腐蝕設(shè)備,使用的安全性能高。


  金相拋光液是以高純度硅粉為原料,經(jīng)特殊工藝生產(chǎn)的一種高純度低金屬離子型拋光產(chǎn)品。本產(chǎn)品可用于硅晶圓、藍(lán)寶石等半導(dǎo)體及襯底材料的粗拋和精拋,具有拋光速率高,拋光后易清洗,表面粗糙度低,能夠得到總厚偏差(TTV)極小的質(zhì)量表面。


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